第442章 协商会议（1/2）

接下来是產业现状分析。

马宇腾用三个段落，勾勒出了2006年东大半导体设备產业的全貌。

光刻机领域：魔都微电子是唯一一家具备整机研製能力的企业，但其研发的分布式投影光刻机尚处於原型机阶段，製程水平停留在280纳米，与国际主流的90纳米量產水平相差三代以上。

核心零部件如光源系统、高精度物镜组、双工件台等，几乎全部依赖进口。

蚀刻机领域：东微半导体刚刚起步，第一代介质蚀刻机尚未完成全部验证测试。与国际巨头应用材料、泛林半导体的技术仍有不小的差距。

薄膜沉积和离子注入领域：国內没有任何一家企业具备成熟的研发能力。

三段话写完，马宇腾停了下来。

他盯著屏幕，手指悬在键盘上方。

议案的第三部分是建议措施。

这一部分他反覆斟酌了很久。

太保守，等於白写。

太激进，会被认为不切实际。

最终他落笔，列出了四条具体建议。

第一，建议国家设立半导体设备专项研发基金，初期规模不低於五十亿元。这笔钱不撒胡椒麵，集中投向光刻机、蚀刻机、薄膜沉积三个卡脖子环节。

第二，建议鼓励和支持国內科研机构与设备企业开展联合攻关。他特別提到了kbbf晶体在光刻机光源领域的应用潜力，建议科学院与魔都微电子建立协作机制，探索具有自主智慧財產权的全固態深紫外光源技术路线。

第三，建议制定半导体设备国產化替代时间表，要求国內晶片製造企业在採购设备时，优先考虑国產替代方案。

第四，建议放宽半导体设备领域的人才引进政策，对海外归国的高端技术人才，在户口、住房、科研经费等方面给予特殊支持。

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写到第四条时，尹仕尧的面孔浮现在他脑海里。那个放弃了硅谷优渥待遇、带著三十多人回国创业的男人，现在还在张江的洁净室里，跟专利壁垒死磕。

这些人不该被亏待。

马宇腾把第七稿通读了一遍，又逐字逐句地修改了两个小时，然后发给陈闯天。

凌晨一点，手机震了。

陈闯天的简讯回復发了过来：我觉得写得很好，应该会引起有关领导重视。

马宇腾放下手机，摘掉眼镜，用拇指和食指捏了捏鼻樑。

窗外，京城的夜色沉沉，长安街上的路灯排成一条笔直的光带，延伸向看不见的远方。

三月一號，他把议案列印了三份，装进档案袋。

三月二號，他参加了协商委员的预备会议。

会上，工作人员逐一確认了每位委员提交的议案和提案。

马宇腾的议案被编了號，归入科技教育类。

他注意到，同一类別下，还有几份关於信息技术和软体產业的提案。

但没有一份涉及半导体设备。

这让他心里多了一分篤定。

在別人还在討论软体外包和网际网路泡沫的时候，他已经瞄准了整个信息產业的命门。

预备会结束后，一个头髮花白的老委员主动走过来，跟他搭话。

“小马是吧？雷霆工业的？你那份议案我扫了一眼，写得不错。”

马宇腾认出了对方。

这位是通信领域的老前辈李石鹤，被称为“东大3g之父”，提出並主持了td-scdma技术的研发，在行业里颇有分量。

“李老过奖了。”